[导读]业内动静，近日美国存储芯片年夜厂美光打算起首采取日本佳能的纳米压印（NIL）光刻机，旨在经由过程佳能的纳米压印光刻机装备来进一步下降出产DRAM存储器的本钱。 业内动静，近日美国存储芯片年夜厂美光打算起首采取日本佳能的纳米压印（NIL）光刻机，旨在经由过程佳能的纳米压印光刻机装备来进一步下降出产DRAM存储器的本钱。 因为光学系统特征，DRAM层图案很难用光学暴光图案，纳米压印可实现更邃密的图案，且本钱是浸润式光刻的20%，成为较佳的解决方案。但纳米压印其实不能在存储器出产所有阶段代替传统光刻，二者并不是纯洁竞争关系，但最少可以下降部门手艺操作本钱。 此前美光科技举行讲会，介绍纳米压印手艺用在DRAM出产的细节。美光论述了DRAM制程和浸润式暴光解析度的问题，经由过程Chop层数不竭增添，必需增添更多暴光步调，以掏出密集存储阵列四周的虚置布局。 佳能在2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机，可将电路图案直接印在晶圆上，佳能强调了该装备的低本钱和低功耗，号称经由过程纳米压印光刻（NIL）手艺实现了今朝最早进的半导体工艺，使该装备的前景成为行业争辩的话题。 佳能半导体装备营业部长Iwamoto Kazunori在注释纳米压印手艺时暗示，纳米压印手艺就是把刻有半导体电路图的掩模压印到晶圆上。在晶圆上只压印一次，便可以在适合的位置构成复杂的2D或3D电路。假如改良掩模，乃至可以出产电线路宽到达2nm节点的产物。今朝，佳能的纳米压印手艺使图案的最小线宽对应5nm节点逻辑半导体。

3月31日动静，近日，全球光刻机巨子ASML(阿斯麦)筹算从荷兰出走的动静激发存眷。

近日，美国智库计谋与国际研究中间（CSIS）发文指出：硅光子学支持并鞭策了光互连和光计较的前进，这项新兴手艺可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。

12月10日�뵺����动静，尼康公布，将在2024年1月正式推出ArF 193纳米淹没式光刻机“NSR-S636E”，出产效力、套刻精度城市有进一步晋升。

业内动静，昨天美国存储巨子美光公司公布其位在马来西亚的新尖端组装和测试工场在本地时候 10 月 15 日正式开业启用，该工场投资约 10 亿美金，该公司称庆贺成立 45 周年之际迎来了汗青性的一天。

10月10日动静，这对ASML来讲是否是有点魔幻，俄罗斯号称开辟出可以替换光刻机的芯片制造东西。